Первая в Китае коммерческая система электронно-лучевой литографии (EBL) “Си Чжи”, разработанная Чжэцзянским университетом, проходит этап тестирования, демонстрируя точность, соответствующую международным стандартам. Это достижение знаменует собой значительный прогресс в исследованиях и разработке квантовых чипов в стране.
В Институте квантовых инноваций университета в районе Юйхан (Yuhang) исследовательская группа тестирует крупногабаритную установку, напоминающую шкаф.
“Это не обычная машина, а ‘нано-кисть’, способная выгравировать карту целого города на одном волосе!” — пояснил руководитель проекта. Разработанная в ключевой провинциальной лаборатории, система “Си Чжи” с напряжением 100 кВ теперь доступна для коммерческого использования.
“Си Чжи”: технология, вдохновленная каллиграфией
Система получила название в честь Ван Сичжи (Wang Xizhi), знаменитого китайского каллиграфа. “Разница лишь в том, что вместо кисти здесь используется электронный луч, который наносит схемы на чипы”, — отметил старший научный сотрудник.
“Си Чжи” предназначена для создания квантовых чипов и передовых полупроводников. Она “рисует” схемы на кремниевых пластинах с точностью до 0,6 нанометра и шириной линии 8 нанометров. Установка позволяет вносить изменения в дизайн без использования традиционных фотошаблонов.
“На ранних этапах разработки часто требуются многочисленные корректировки. EBL обеспечивает высокую точность и удобство ‘рисования’, значительно ускоряя процесс создания чипов”, — добавил исследователь.
Преодоление технологических барьеров
До появления “Си Чжи” подобные технологии находились под международными экспортными ограничениями, что затрудняло их приобретение даже для ведущих научных центров, таких как Университет науки и технологий Китая и лаборатории Чжэцзянского университета.
Сейчас система уже рассматривается для закупок компанией Huawei HiSilicon и рядом научных институтов. При этом ее цена ниже среднемировой.
Успех “Си Чжи” стал возможен благодаря модели “двойной интеграции”, предложенной провинцией Чжэцзян (Zhejiang). Этот подход объединяет технологические и промышленные инновации, создавая благоприятные условия для разработки передовых решений.
Электронно-лучевая литография: перспективы для китайской микроэлектроники
Тестирование “Си Чжи” представляет собой важный шаг в локализации производства высокотехнологичного оборудования для полупроводниковой промышленности. Эта система, полностью разработанная в Китае, закладывает основу для ускоренного развития отечественных высокопроизводительных чипов.
Район Юйхан в Ханчжоу (Hangzhou) делает ставку на интеграцию образования, науки и кадровой политики, используя искусственный интеллект как ключевой драйвер роста. В будущем здесь планируется создание инновационной демонстрационной зоны с акцентом на передовые технологии и финансирование научных проектов.
Разработка “Си Чжи” демонстрирует, что Китай способен не только догонять, но и создавать конкурентоспособные технологии в области микроэлектроники. Это важный шаг к технологической независимости. Как вы считаете, сможет ли Китай закрепиться в числе лидеров полупроводниковой отрасли? Поделитесь мнением в комментариях!
Новость Китая “Электронно-лучевая литография без ограничений: “Си Чжи” открывает новые горизонты ” подготовлена Порталом PRC.TODAY.
Если вам понравилась новость или появились вопросы, оставьте ваш комментарий или обсудите эту новость в нашем Telegram-канале
